新型的電磁波吸波材料石墨烯研磨分散機，石墨烯復合管線式研磨分散機，石墨烯高速高校復合設備，高剪切研磨分散機，德國進口研磨分散機

IKN研磨分散機能夠實現(xiàn)自動控制，且操作簡單方便，機器運行很穩(wěn)定。機器的拆洗很方便，不存在任何死角，可以做到*的清洗。

何為石墨烯??？

石墨烯是目前已知的導電性能zui好的材料。石墨烯中的電子運動速度可以達到光速的1/300。石墨烯的價帶和導帶相交于費米能級，這賦予了石墨烯*的零能隙半導體性能，是目前zui高遷移率的銻化銦材料的兩倍。在未來，石墨烯或有可能取代硅制造超微型晶體管，將計算機處理器的運算速率提高百倍。石墨烯的強度相當于目前zui好的鋼材強度的100多倍，硬度甚至超過了zhuan石，是目前自然界強度zui大的材料，而它的密度卻很小。在室溫下，石墨烯的熱傳導率是常用的金屬導熱材料如金銀銅的十幾倍，是鋁的二十多倍。

石墨烯還具有其他一些特殊的性能，如超高的比表面積。單原子層石墨烯的理論比表面積可以達到驚人的2630m2/g，是活性炭的比表面積的2～3倍，可以用于吸附和脫附各種大分子和小顆粒。石墨烯的光學透過率達到97.7%，這種特性讓石墨烯在太陽能電池的透明電極也有應用的潛力。

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上述特點使得石墨烯有可能取代傳統(tǒng)碳材料成為一種新型的電磁波吸收材料，但不可回避的是，與其他碳系材料類似，單純石墨烯的主要電磁波衰減機制是電損耗，因而吸波性能欠佳。

因此將碳材料與鐵氧體、電損耗型的金屬化合物納米粒子復合是提高吸波性能的一種有效途徑。石墨烯比表面積大，很適合作為載體來負載納米粒子，不僅可以有效解決納米粒子分散性差、自身易團聚的難題，而且可以在納米尺度上對其結構和性能進行設計和優(yōu)化，從而制備出具有特定組成、結構和性能的石墨烯基多功能復合吸波材料。

石墨烯的吸波原理：

電磁波在傳播過程中遇到任何形狀的介質時，在電磁波的入射面或界面都會發(fā)生反射和透射現(xiàn)象。由于原傳播介質的波阻抗和材料的波阻抗并不匹配，就會有一部分的電磁波發(fā)生反射，而另一部分則透射進入到介質內部。阻抗越不匹配，反射的電磁波就越多。只有當原傳播介質的波阻抗與材料的波阻抗相互匹配時，電磁波才會zui大效率地入射到材料內。電磁波在材料內部傳播過程中與材料發(fā)生相互作用并被轉化為其他形式的能量（如機械能、電能和熱能等），即電磁波損耗。

所以，吸波材料的吸波性能主要由兩個條件決定：一是阻抗匹配特性，即減少電磁波在材料表面的反射或電磁波能夠zui大限度地進入到材料內部；二是衰減特性，即電磁波進入到材料內部后，材料能夠對電磁波進行有效地吸收或損耗，減少電磁波的二次反射。

CMD2000系列研磨分散機的結構：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨

2、 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設備其它參數(shù):

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節(jié)到zui大允許量的10%

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