光化學(xué)離子反應(yīng)除臭設(shè)備描述

      一、廢氣處理利用特制的高能高臭氧UV紫外線(xiàn)光束照射惡臭氣體物質(zhì)分子鍵，裂解惡臭氣體物質(zhì)如：氨、甲硫氫、二硫化碳和，硫化物H2S、VOC類(lèi)，苯的分子鍵，使呈游離狀態(tài)的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無(wú)害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等。

　　二、利用高能高臭氧UV紫外線(xiàn)光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而生成臭氧；臭氧與呈游離狀態(tài)污染物質(zhì)原子聚合，生成新的、無(wú)害或低害物質(zhì)，如CO2、H2O等，同時(shí)，臭氧對(duì)有機(jī)物具有*的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有*的清除效果。

　　三、惡臭氣體（工業(yè)廢氣）利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本UV光解凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線(xiàn)光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同裂解、氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。

      四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸（DNA），再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，*達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的。

　　五、適用范圍：煉油廠(chǎng)、橡膠廠(chǎng)、化工廠(chǎng)、制藥廠(chǎng)、污水處理廠(chǎng)、垃圾轉(zhuǎn)運(yùn)站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。

光化學(xué)離子反應(yīng)除臭設(shè)備性能綜述

     一、高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無(wú)機(jī)物、、氨氣、硫醇類(lèi)等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)99.9%以上，脫臭效果大大超過(guò)國(guó)家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554-93）。

　　二、無(wú)需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

　　三、適應(yīng)性強(qiáng)：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，可每天24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

　　四、運(yùn)行成本低：本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專(zhuān)人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時(shí)，僅耗電約0.1度電能），設(shè)備風(fēng)阻極低＜30pa，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

　　五、無(wú)需預(yù)處理：惡臭氣體無(wú)需進(jìn)行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30o−95o之間，濕度在40%−98%之間均可正常工作。＜1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。

　　六、優(yōu)質(zhì)防腐材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長(zhǎng)。