食品機械設(shè)備網(wǎng)
詳細介紹
半導體硅片生產(chǎn)用超純水處理設(shè)備
-
設(shè)備型號
YB-CCS-001 -
產(chǎn)水量
可根據(jù)用戶要求而定 -
適用范圍
1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水;2、超純材料和超純化學試劑勾兌用超純水;3、實驗室和中試車間用超純水;4、汽車、家電表面拋光處理;5、光電子產(chǎn)品;6、其他高科技精微產(chǎn)品。
產(chǎn)品介紹
硅片，是制作集成電路的重要材料，通過對硅片進行光刻、離子注入等手段，可以制成各種半導體器件。用硅片制成的芯片有著驚人的運算能力?？茖W技術(shù)的發(fā)展不斷推動著半導體的發(fā)展。自動化和計算機等技術(shù)發(fā)展，使硅片（集成電路）這種高技術(shù)產(chǎn)品的造價已降到十分低廉的程度。這使得硅片已廣泛應用于航空航天、工業(yè)、農(nóng)業(yè)和國防，甚至悄悄進入每一個家庭。
工藝設(shè)計
1、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透設(shè)備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
2、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透→PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
3、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
2、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透→PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
3、原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過濾器→用水點
設(shè)備特點
1、連續(xù)運行禪水質(zhì)穩(wěn)定品質(zhì)更佳。
2、系統(tǒng)運行可靠性穩(wěn)定。
3、運行成本低。
4、占地面積小。
5、自動化程度高。
6、操作及維護簡單，無需接觸酸堿。
7、使用安全及環(huán)境良好。
8、無污水排放，無環(huán)境污染。
2、系統(tǒng)運行可靠性穩(wěn)定。
3、運行成本低。
4、占地面積小。
5、自動化程度高。
6、操作及維護簡單，無需接觸酸堿。
7、使用安全及環(huán)境良好。
8、無污水排放，無環(huán)境污染。
技術(shù)參數(shù)
電導率：2-10μS/cm（25℃）
PH值：6.5－9
水溫度：5～35℃
總硬度：<0.5ppm
有機物：<0.5 ppm,TOC為零
氧化物：≤0.05ppm
鐵、錳：<0.01ppm
二氧化硅：<0.05 ppm
二氧化碳：<5ppm
PH值：6.5－9
水溫度：5～35℃
總硬度：<0.5ppm
有機物：<0.5 ppm,TOC為零
氧化物：≤0.05ppm
鐵、錳：<0.01ppm
二氧化硅：<0.05 ppm
二氧化碳：<5ppm
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