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深圳市二氧化氯發(fā)生器質(zhì)量可靠
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種改進(jìn)的電子工業(yè)含氟含氨氮廢水處理用反滲透膜裝置的清洗方法。
為解決以上技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:
一種電子工業(yè)含氟含氨氮廢水處理用反滲透膜裝置的清洗方法,所述反滲透膜裝置包括*段反滲透膜及與所述*段反滲透膜的濃水出水口相連的第二段反滲透膜,所述方法為對(duì)*段反滲透膜和第二段反滲透膜進(jìn)行獨(dú)立清洗,且采用不同的清洗液,其中采用能夠除去有機(jī)物、微生物和膠體的清洗液對(duì)*段反滲透膜單元進(jìn)行清洗;采用能夠除去有機(jī)物、微生物、膠體、無(wú)機(jī)鹽結(jié)晶以及各種形式的硅化物的清洗液對(duì)第二段反滲透膜單元進(jìn)行清洗。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)進(jìn)一步實(shí)施方案,采用堿性或酸性洗液對(duì)*段反滲透膜進(jìn)行清洗。優(yōu)選地,采用質(zhì)量濃度0.08%~1.2%的氫氧化鈉溶液和/或質(zhì)量濃度為0.1%~0.3%的鹽酸溶液對(duì)*段反滲透膜進(jìn)行清洗。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)進(jìn)一步實(shí)施方案,采用添加有分散劑和/或還原劑的堿性溶液或酸性溶液對(duì)第二段反滲透膜進(jìn)行清洗。
優(yōu)選地,所述的分散劑為Na4-EDTA;所述的還原劑為NaHSO3或者Na2S2O3。
根據(jù)一個(gè)具體且優(yōu)選方面,對(duì)第二段反滲透膜單元進(jìn)行清洗的清洗液中含有:
a)質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.08%~1.2%的氫氧化鈉或質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.1%~0.3%的鹽酸;和選自下述b)和c)中的一種:
b)質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.8%~1.2%的Na4-EDTA和/或質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.02%~0.03%的NaSDS;
c)質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.8%~1.2%的NaHSO3和/或Na2S2O3。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)具體且優(yōu)選方面,進(jìn)行清洗時(shí),將清洗液盛裝于清洗罐中,利用管道和清洗泵使清洗液經(jīng)*段反滲透膜或第二段反滲透膜的進(jìn)水口通入,對(duì)相應(yīng)的反滲透膜的內(nèi)部進(jìn)行清洗后,再?gòu)南鄳?yīng)的反滲透膜的濃水出口排出并重新回到清洗罐,循環(huán)清洗多次。
優(yōu)選地,對(duì)*段反滲透膜單元進(jìn)行清洗時(shí),控制清洗液的溫度為20~30℃,流量為每支膜殼35~45GPM,清洗泵的壓力為0.5~4.0Bar。
優(yōu)選地,對(duì)第二段反滲透膜單元進(jìn)行清洗時(shí),控制清洗液的溫度為20~30℃,流量為每支膜殼35~45GPM,清洗泵的壓力為0.5~4.0Bar。優(yōu)選地,采用一個(gè)清洗罐,分別通過(guò)*連接管路和第二連接管路將所述清洗罐與所述的*段反滲透膜的進(jìn)水口和第二段反滲透膜的進(jìn)水口連通,對(duì)*段反滲透膜和第二段反滲透膜的清洗一先一后進(jìn)行,清洗其中一個(gè)時(shí),將另一個(gè)對(duì)應(yīng)的連接管路關(guān)閉,并加入相應(yīng)的清洗液,清洗完一個(gè),清洗另一個(gè)時(shí),將前面的清洗液排盡,再加入對(duì)應(yīng)的清洗液進(jìn)行清洗。
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