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凱戈納斯儀器商貿(上海)有限公司
參 考 價 | 面議 |
產品型號SAL-3000
品 牌
廠商性質其他
所 在 地上海市
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更新時間:2025-07-08 13:41:22瀏覽次數(shù):13次
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SAL-3000系列桌面型ALD原子層沉...
SAL-3000 ALD原子層沉積系統(tǒng)
SAL3000是一款適用于研究型的ALD原子層沉積設備,該設備最多可搭載6路前驅體,適用于4英寸(φ100mm)以下基底材料的鍍膜。該設備在保持了優(yōu)異的膜厚分布外,還可進一步通過改變鍍膜方向,來進一步提高鍍膜的質量。并且該設備還可搭載互鎖腔體(Load lock Chamber)和手套箱來沉積需要氣氛保護的樣品。
SAL-3000 SAL3000+Load Lock Chamber
性能及特點:
1.鍍膜質量高 | ![]() |
·膜厚均勻性≤3% @ 100mm | |
·對于內孔、凹槽與高深寬比結構具有良好的沉積均勻性; | |
·膜厚可準確控制達一個原子層; | |
·大面積制程可達到無孔洞薄膜(Pin Hole free) | |
·的重復性及穩(wěn)定性 | |
·材料缺陷密度低 | |
·可成長非晶型或結晶薄膜(選擇溫度) | |
2.兩種成膜方向可選 | |
·可選擇將薄膜沉積在基底上表面(SAL-3000D)和基底下表面(SAL-3000U),薄膜沉積在基底下表面可降低顆粒附著基底的風險。 | |
3. 可搭載互鎖腔體(Load lock chamber)和手套箱 | |
4.圖形用戶界面,觸控操作,簡單易用,可存儲30多種鍍膜方案; | |
5.主機與控制機箱一體化設計; | |
6. 可搭配多種配件: | |
干式真空泵,臭氧發(fā)生器,尾氣處理裝置,800℃基底加熱器,200℃前驅體加熱器等,退火設備等; |
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