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蘇州市創(chuàng)聯(lián)凈化設(shè)備有限公司
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產(chǎn)品型號
品 牌
廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
所 在 地蘇州市
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更新時間：2025-03-01 09:13:27瀏覽次數(shù)：30次
聯(lián)系我時，請告知來自 食品機械設(shè)備網(wǎng)微電子工業(yè)用純水設(shè)備PCB線路板用純水設(shè)備統(tǒng)稱線路板清洗設(shè)備，PCB板純水設(shè)備,PCB純水機，因為線路板生產(chǎn)過程中常用到的電鍍銅，錫，鎳金;化學(xué)鍍鎳金;PTH/黑孔;表面處理蝕刻等生產(chǎn)過程都需要用到不同要求的純水，再者線路板生產(chǎn)過程中使用的藥水不同，生產(chǎn)工藝流程的差異，對純水的品質(zhì)要求也不一樣
微電子工業(yè)用純水設(shè)備
PCB線路板用純水設(shè)備統(tǒng)稱線路板清洗設(shè)備，PCB板純水設(shè)備,PCB純水機，因為線路板生產(chǎn)過程中常用到的電鍍銅，錫，鎳金;化學(xué)鍍鎳金;PTH/黑孔;表面處理蝕刻等生產(chǎn)過程都需要用到不同要求的純水，再者線路板生產(chǎn)過程中使用的藥水不同，生產(chǎn)工藝流程的差異，對純水的品質(zhì)要求也不一樣。
純水設(shè)備還可以應(yīng)用到其它電子產(chǎn)品清洗用水，用途和參考標準：
| 用途Applications | 用水指標Water Indicators | 參考標準Reference standard |
| 單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃等生產(chǎn)、半導(dǎo)體芯片相關(guān)、半導(dǎo)體設(shè)備清洗
| 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM
| 我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標，GB11446-1-1997 美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標 |
| 單晶硅半導(dǎo)體集成電路塊，顯像管、玻殼、液晶顯示器等制造工業(yè)
| 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM
| 美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標 我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標，GB11446-1-1997 |
| 光學(xué)材料清洗用水、電子陶瓷行業(yè)用純水、磁性材料用純水
| 電阻率 10 ~17 MΩ.CM
| 我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標，GB11446-1-1997 美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標 |
| 蓄電池、鋰電池、鋅錳電池生產(chǎn)
| 電阻率5 ~10 MΩ.CM
| 我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標，GB11446-1-1997 |
| 有色金屬、貴金屬冶煉用水、納米級新材料生產(chǎn)用水、航空新材料生產(chǎn)用水、ITO導(dǎo)電玻璃制造用水、電子級無塵布生產(chǎn)用水 | 電阻率15 ~18.25 MΩ.CM
| 我國電子級水質(zhì)技術(shù)指標，GB11446-1-1997
美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標
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主要工藝流程和出水指標：
預(yù)處理+二級反滲透+EDI（電阻率≥15MΩ.CM）
預(yù)處理+二級反滲透+脫氣膜+EDI +拋光混床（電阻率≥18.25MΩ.CM）
詳細工藝需根據(jù)原水及用水要求設(shè)計情況進行設(shè)計
純水設(shè)備的主要特點
| ▼結(jié)合電子工業(yè)用水連續(xù)生產(chǎn)的特性，采用了膜法處理工藝（UF+RO+EDI）完成高純水的制備工作； ▼對于電子行業(yè)用水的特性，增強了對水中二氧化硅、重金屬和有機碳的脫除； ▼采用了氮封水箱解決了電子工業(yè)用水要求較高，水的儲存容易污染問題； ▼采用進口反滲透膜，脫鹽率高，使用壽命長，運行成本低廉，產(chǎn)水水質(zhì)高而穩(wěn)定； ▼在線水質(zhì)監(jiān)測控制，實時監(jiān)測水質(zhì)變化，保障水質(zhì)安全； ▼全自動電控程序，還可選配觸摸屏操作，使用方便，操作簡單、安全； ▼切合當(dāng)?shù)厮|(zhì)的個性化設(shè)計，設(shè)想周到的堆疊式設(shè)計，占地面積小，滿足客戶需求。 ▼運行費用及維修成本低，自動運行，可以實現(xiàn)無人化管理操作。
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