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        在阻垢劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時或加酸系統(tǒng)出現(xiàn)故障時給出水PH值升高，那么碳酸鈣就有可能沉積出來，應盡早發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢沉積的發(fā)生，以防止生長后的晶體對膜表面產(chǎn)生操作，如早期發(fā)現(xiàn)碳酸鈣垢，可以用降低給水PH至3-5之間運行1-2小時的方法去除。

　　對沉淀時間更長的碳酸鈣垢，則應采用2%的檸檬酸清洗液(控制PH不小于4)進行清洗。

　　注：應確保任何清洗液的PH不要低于4，否則可能會對RO膜元件造成損害，特別在溫度較高時更應注意，zui高的PH值應不大于10，可使用酸性溶液降低PH值，用氫氧化鈉來提高PH值。

反沖洗反滲透系統(tǒng)時，清洗反滲透膜元件時建議采用表二所列的清洗液。確定清洗液前對污染物進行化學分析是十分重要的，對分析結(jié)果的詳細分析比較，可保證選擇*的清洗劑及清洗方法。應記錄每次清洗時清洗方法及獲得的清洗效果，為在特定給水條件下，找出*的清洗方法提供依據(jù)。

　　對于無機污染物建議使用1#清洗液，對硫酰鈣及有機污染物建議使用2#清洗液。對于嚴懲有機物污染建議使用3#清洗液。所有清洗液可以在溫度40℃下清洗60分鐘。所需用品量以每379升中加入量計，配制清洗液時按比例加入藥品及清洗用水(反滲透淡水)并混合均勻。