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(技術(shù)中心-真空爐)
與傳統(tǒng)的立式爐相比,真空氣氛爐(真空爐)是一種*實(shí)驗(yàn)設(shè)備,其適用于金屬,納米,單晶硅,多晶硅,電池等的擴(kuò)散焊接以及真空氣體保護(hù)下,是一種氣氛熱處理的高溫爐加熱設(shè)備.
一般的燒結(jié)爐的用途主要就是用于燒結(jié),而真空氣氛爐卻有所不同,它主要是用于材料或化學(xué)實(shí)驗(yàn)室,在真空或氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品。
真空氣氛爐廣泛應(yīng)用于高、中、低溫SK工藝,例如;納米粉體的轉(zhuǎn)相、炭納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)等等;也可適用于金屬材料的擴(kuò)散焊接以及真空或保護(hù)氣氛下熱處理。
真空氣氛爐定義
真空氣氛爐是一種*實(shí)驗(yàn)設(shè)備,適用于金屬,納米,單晶硅,多晶硅,電池等的擴(kuò)散焊接以及真空氣體保護(hù)下,氣氛熱處理的加熱設(shè)備用于材料或化學(xué)實(shí)驗(yàn)室,在真空或氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品。
真空氣氛爐原理
真空氣氛爐以硅碳棒為加熱元件,采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和程序控溫系統(tǒng),移相觸發(fā)、可控硅控制,爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料,雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng),能快速升降溫,采用外殼整體密封、蓋板密封采用硅膠泥、爐門(mén)采用硅膠墊并通有水冷系統(tǒng),氣體經(jīng)過(guò)流量計(jì)后由后膛進(jìn)出,有多處洗爐膛進(jìn)氣口、出氣口處有燃燒嘴,可以通氫氣、氬氣、氮?dú)?、?/span>氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體.
真空氣氛爐應(yīng)用范圍
真空燒結(jié)爐用于材料或化學(xué)實(shí)驗(yàn)室,在真空或氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品,納米粉體的轉(zhuǎn)相、炭納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結(jié)構(gòu)的可控生長(zhǎng)等等;也可適用于金屬材料的擴(kuò)散焊接以及真空或保護(hù)氣氛下熱處理。還可用于材料試驗(yàn)、合成、燒結(jié)等;陶瓷材料、粉體材料、金屬陶瓷的真空燒結(jié)及真空退火,也可以用于以上材料的真空脫脂,真空除氣。
真空氣氛爐用途
真空氣氛爐適用于工礦企業(yè)、大專(zhuān)院校,科研院所及實(shí)驗(yàn)室作真空或氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品用.真空氣氛管式爐是一種*實(shí)驗(yàn)設(shè)備,適用于金屬,納米,單晶硅,多晶硅,電池等的擴(kuò)散焊接以及真空氣體保護(hù)下,氣氛熱處理的加熱設(shè)備. 真空氣氛爐主要用于材料試驗(yàn)、合成、燒結(jié)等。爐體保溫性能良好,節(jié)能*。該電爐可通入不同氣氛及抽真空,可滿(mǎn)足非氧化物的高溫處理.
還可用于、復(fù)合材料、粉體材料、結(jié)構(gòu)陶瓷、合金的真空熱壓燒結(jié),也可以用于處理本工作范圍下的其他材料。
(技術(shù)中心-氣氛爐)
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