清潔劑膠體磨，表面活性劑膠體磨，清潔液膠體磨，衛(wèi)生級膠體磨，化工膠體磨，高速膠體磨
清潔劑，是一種液體狀態(tài)的用來洗滌衣物或清洗用具或清潔家具等東西的清潔產(chǎn)品。它采用多種新型表面活性劑，去污力強(qiáng)，漂洗容易 ，對皮膚無刺激。zui宜洗滌廚具，家具，及水果瓜菜。
洗滌劑的主要成分是表面活性劑，表面活性劑是分子結(jié)構(gòu)中含有親水基和親油基的有機(jī)化合物。一般是根據(jù)表面活性劑在水溶液中能否分解為離子，又將其分為離子型表面活性劑和非離子型表面活性劑的兩大類。離子型表面活性劑又可分為陽離子表面活性劑、陰離子表面活性劑和兩性離子表面活性劑三種。
實(shí)踐證明，在織物的水洗中只有陰離子表面活性劑和非離子型表面活性劑，對織物去污能夠起到正面有效的作用。因此這兩種表面活性劑就成了衣物洗滌劑的主要材料。洗滌劑要具備良好的潤濕性、滲透性、乳化性、分散性、增溶性及發(fā)泡與消泡等性能這些性能的綜合就是洗滌劑的洗滌性能。洗滌劑的產(chǎn)品種類很多，基本上可分為肥皂、合成洗衣粉、液體洗滌劑、固體狀洗滌劑及膏狀洗滌劑幾大類。
是由電動機(jī)通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
清潔劑高剪切膠體磨的細(xì)化作用一般來說要弱于均質(zhì)機(jī)，但它對物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下，它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化。
SGNGM2000系列是專門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)。GM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求，三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子，配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。
SGN的GM2000系列膠體磨和國內(nèi)設(shè)備相比
三級結(jié)構(gòu) | 磨頭結(jié)構(gòu) | 轉(zhuǎn)速 | 線速度 | 模塊頭 | 密封類型 | 產(chǎn)品效果 | |
國內(nèi)設(shè)備 | 溝槽是直線，同級的溝槽深度一樣 | 溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下 | 目前是不通過變頻器來調(diào)節(jié)，若通過變頻調(diào)節(jié)，他們的軸承不能承受高速運(yùn)轉(zhuǎn)。一般在3000RPM（這是由于膠體磨的內(nèi)部結(jié)構(gòu)及精密的程度決定的。） | 大約在10-15M/S | 只有一種模塊頭 | 單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)，造成馬達(dá)燒毀 | 粒徑細(xì)度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差 |
SGN 上海思峻 | 溝槽是曲線，上下深度不一，上深下淺 | 斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大 | 可以通過變頻調(diào)速，轉(zhuǎn)速可達(dá)7890/13789RPM ，通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍，研磨的力度也是他們的3-4倍，這樣研磨的細(xì)度更小) | 23-40 M/S | 可以選擇六種不同的模塊頭，實(shí)現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，GM膠體模塊，GMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊 | 雙機(jī)械密封，易于清洗，將泄漏降至更低，可24小時不停運(yùn)轉(zhuǎn) | 可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工
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