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PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地深圳市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2019/8/13 8:59:16
  • 訪問(wèn)次數(shù)320
產(chǎn)品標(biāo)簽:

紫外臭氧清洗機(jī)凈化機(jī)

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藍(lán)星宇科技專(zhuān)業(yè)研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)等儀器設(shè)備。引進(jìn)日本,德國(guó),韓國(guó)*技術(shù),設(shè)備已獲得眾多院校,研究所,高科技企業(yè)等客戶*認(rèn)可。 

  同時(shí)我們專(zhuān)注進(jìn)口科學(xué)儀器設(shè)備及材料,主要代理有:德國(guó)Nanoscribe 雙光子微納 3D 打印機(jī)(雙光子飛秒激光直寫(xiě)儀)德國(guó) SUSS 蘇斯光刻機(jī),德國(guó) Heidelberg 海德堡光刻機(jī),美國(guó) OAI 光刻機(jī),德國(guó) Raith 電子束光刻機(jī),英國(guó) Durtham 無(wú)掩膜光刻機(jī),美國(guó) Trion 刻蝕機(jī).沉積機(jī),德國(guó) Sentech 刻蝕機(jī).沉積機(jī),德國(guó) Optosol 吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀,日本 SEN  UV清洗機(jī).UV清洗燈,美國(guó)Jelight UV清洗機(jī),美國(guó) Nano-master 晶圓清洗機(jī),美國(guó) Arradiance 原子層沉積機(jī),德國(guó) WL 微波離子沉積機(jī),德國(guó) Iplas 微波離子沉積機(jī),美國(guó)量子科學(xué) Quantum 綜合物性測(cè)量系統(tǒng),德國(guó) Diener 等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品;并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)儀器及材料。我們以具競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為中國(guó)半導(dǎo)體/電子/光電/生物//高科技企業(yè)/高校學(xué)院/研究所/檢測(cè)分析等客戶提供設(shè)備儀器及材料

 

產(chǎn)品分類(lèi) 半導(dǎo)體微納工藝設(shè)備 光刻機(jī)系統(tǒng)(歐美日進(jìn)口) 真空鍍膜/薄膜沉積 離子刻蝕與沉積 勻膠涂覆機(jī) 輔助工藝 UV清洗-等離子清洗設(shè)備 紫外線UV清洗機(jī) 準(zhǔn)分子清洗機(jī) 等離子清洗機(jī) UV清洗燈UV固化燈曝光燈 UV固化機(jī)UV解膠機(jī) 電源.安定器 UV殺菌機(jī) UV能量計(jì) 半導(dǎo)體微納檢測(cè)儀器 JEOL 日本電子儀器設(shè)備 德Bruker原子力顯微鏡/光學(xué)輪廓儀/臺(tái)階儀/紅外光譜儀 ALPHA II FTIR光譜儀 YXLON 高分辨率X射線檢測(cè)設(shè)備 TEK半導(dǎo)體參數(shù)分析儀 美國(guó) Denton Vacuum金/碳鍍膜機(jī) 半導(dǎo)體測(cè)試探針臺(tái)-智果EMP50S 德Klock Nanotech 納米級(jí)3D測(cè)量?jī)x Nisene 等離子開(kāi)封及化學(xué)開(kāi)封設(shè)備 德Mecwins 掃描式激光分析儀 RTI 自動(dòng)特性圖示儀 美Filmetrics 薄膜厚度測(cè)量?jī)x 美Nanovea三維表面形貌儀
類(lèi)型 長(zhǎng)龍式
PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗機(jī)分子存在時(shí)間短并且同時(shí)也被254nm光分解,樣品臺(tái)可以調(diào)節(jié)樣品到燈管的距離來(lái)優(yōu)化性能。PSD和PSDP分解有機(jī)污染物,然后形成CO2和H2O蒸氣,同時(shí)也將臭氧分子轉(zhuǎn)變成氧分子。
PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗機(jī) 產(chǎn)品信息

PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗機(jī)

PSDP-UVT 新增加一個(gè)加熱盤(pán),將PSDP-UV的能力提升到了新的水平,使其能大化的分解有機(jī)分子物質(zhì)。帶PID反饋回路的數(shù)字控制器能精準(zhǔn)保持熱盤(pán)的溫度,溫度范圍可達(dá)150攝氏度。

選項(xiàng):OES-1000D臭氧消除系統(tǒng) (內(nèi)置真空泵和催化型臭氧中和器,用于清洗完成后的臭氧消除)

? 數(shù)字控制加熱盤(pán)可以設(shè)置高達(dá)150攝氏度
? 可調(diào)節(jié)托盤(pán)高度
? 安全開(kāi)關(guān)防止使用者被紫外光照射
? 可編程數(shù)字控制器
? 數(shù)字顯示倒計(jì)時(shí)
? 可執(zhí)行暫停和終止指令
? 內(nèi)部存儲(chǔ)器用于記錄之前的參數(shù)設(shè)置
? 高利用率和高靈活性
? 室溫操作,使用空氣或是氧氣


一般特性:

電 源:100.120.220.240VAC.50-60周期。

樣品高度:所有系統(tǒng)都配置可調(diào)節(jié)高度的樣品臺(tái),調(diào)節(jié)燈與樣品之間的間距,并帶位置鎖定,標(biāo)準(zhǔn)樣品臺(tái)尺寸為UV格柵燈大小或更大。

UV格柵燈:產(chǎn)生臭氧的低壓汞格柵燈,帶反射罩。燈管壽命大約為5000小時(shí)。

UV反射罩:UV反射罩一般比UV格柵燈大一英寸。比如4×4英寸燈管反射罩尺寸是5×5英寸。

樣品放置:打開(kāi)清洗腔上蓋,露出樣品臺(tái),允許360度裝入樣品。

安全裝置:當(dāng)清洗腔打開(kāi)時(shí),系統(tǒng)安全鎖會(huì)關(guān)掉UV燈。

進(jìn)出氣口:標(biāo)準(zhǔn)配置2個(gè)氣接口,可選更多。

真空反應(yīng)腔:選項(xiàng)客戶化定制,鋁或石英材料。

溫度范圍:高達(dá)150攝氏度。

臭氧中和器:中和器和泵用于臭氧排除。(PSD和PSDP選項(xiàng))


工作原理 :

PSDP-UVT系列產(chǎn)品通過(guò)產(chǎn)生185nm和254nm高強(qiáng)度UV光分解有機(jī)分子(污染物)。185nm的光可以將氧分子O2轉(zhuǎn)變成活性的O3臭氧分子。254nm的光同時(shí)激發(fā)表面的有機(jī)分子,使其更容易被臭氧分子吸收并分解。由于臭氧分子存在時(shí)間短并且同時(shí)也被254nm光分解,樣品臺(tái)可以調(diào)節(jié)樣品到燈管的距離來(lái)優(yōu)化性能。PSD和PSDP分解有機(jī)污染物,然后形成CO2和H2O蒸氣,同時(shí)也將臭氧分子轉(zhuǎn)變成氧分子。


典型應(yīng)用包括:

•表面的原子級(jí)清洗 
•聚合物粘接
•去除有機(jī)分子
•釋放捕獲的無(wú)機(jī)分子
•微流控制作
•微米/納米構(gòu)型
•紫外光固化
•表面化學(xué)改性
•表面殺菌
•表面氧化
•金屬粘結(jié)準(zhǔn)備……


型號(hào)及尺寸: 
 

型號(hào)

UV燈尺寸

樣品臺(tái)高度

外型

PSDP-UV4T

4”×4”

~4”

15L×15W×10.5H”

PSDP-UV6T

6”×6”

~4”

15L×15W×10.5H

PSDP-UV8T

8”×8”

~4”

15L×15W×10.5H”

PSDP-UV10T

10”×10”

~4”

15L×17W×10.5H”

PSDP-UV12T

12”×12”

~4”

15L×17W×10.5H”

PSDP-UV816T

8”×16”

~4”

15L×17W×10.5H”

PSDP-UV1016T

10”×16”

~3”

15L×17W×10.5H”

PSDP-UV1216T

12”×16”

~2.5”

15L×17W×10.5H”

PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗機(jī)

關(guān)鍵詞:清洗機(jī) 真空泵
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