一、哈澤爾復(fù)合電吸附裝置 水處理設(shè)備電化學(xué)水處理設(shè)備利用水垢預(yù)沉積和氯離子及氧離子的氧化產(chǎn)物，用于工業(yè)循環(huán)冷卻水、空調(diào)循環(huán)水、工業(yè)循環(huán)制造冷卻水、供水系統(tǒng)（飲用水、熱水系統(tǒng)），從而取代軟化樹脂或者化學(xué)藥劑解決結(jié)垢和微生物控制的問題。冷卻水在反應(yīng)室內(nèi)，經(jīng)過電化學(xué)作用發(fā)生下列反應(yīng)：

1) 在陰極（反應(yīng)室內(nèi)壁）附近形成一個強(qiáng)堿性環(huán)境（PH高達(dá)13），使碳酸鈣從水中析出，與沉積的重金屬離子一起附著在內(nèi)壁上。

2) 電流導(dǎo)致懸浮顆粒失穩(wěn)，形成較大絮體沉淀下來。

3) 在陽極附近，氯離子被電解氧化生成游離氯或者次氯酸。

4) 在陽極附近同時生成氫氧根自由基、氧自由基、臭氧以及雙氧水，這些物質(zhì)進(jìn)一步強(qiáng)化了在反應(yīng)室內(nèi)和整個水系統(tǒng)的殺菌滅藻效果。

5) 當(dāng)工作時間達(dá)到設(shè)定值，控制系統(tǒng)就啟動自動刮垢、排污和清洗程序，刮掉反應(yīng)室內(nèi)壁的軟質(zhì)水垢，與沉淀物一起排出反應(yīng)室。同時通過維系冷卻水中的礦物質(zhì)平衡防止系統(tǒng)腐蝕。電化學(xué)系統(tǒng)全自動操作，免維修，環(huán)境友好，對水質(zhì)無污

染。同時也防止冷卻塔中軍團(tuán)菌和其他微生物及藻類滋生。電化學(xué)系統(tǒng)提供的清潔循環(huán)冷卻水電化學(xué)處理方案，是根據(jù)循環(huán)水系統(tǒng)工藝要求，同時對補(bǔ)充水和循環(huán)水水質(zhì)的科學(xué)分析計算得出來的，是一個量身定制的經(jīng)濟(jì)技術(shù)方案。

二、哈澤爾復(fù)合電吸附裝置 水處理設(shè)備電化學(xué)設(shè)備工作原理

冷卻水從進(jìn)水閥進(jìn)入反應(yīng)室內(nèi)，在陰極附近和陽極附近經(jīng)過電化學(xué)作用發(fā)生下列反應(yīng)：

（1）在陰極（反應(yīng)室內(nèi)壁）附近產(chǎn)生大量氫氧根離子（OH - ），形成一個強(qiáng)堿性環(huán)境。在鄰近反應(yīng)室壁的擴(kuò)散層內(nèi)，強(qiáng)堿性環(huán)境擾亂了水垢的化學(xué)平衡。

（2）同時陰極的電流導(dǎo)致溶解的重金屬離子形成沉淀，沉到反應(yīng)室底部。

（3）在陽極附近，氯離子被電解氧化生成游離氯或者次氯酸。

（4）在陽極附近同時生成氫氧根自由基、氧自由基、臭氧以及雙氧水，這些物質(zhì)進(jìn)一步強(qiáng)化了反應(yīng)室內(nèi)和整個水系統(tǒng)的殺菌滅藻效果。

（5）懸浮物（SS）在電場的作用下失穩(wěn)，絮凝沉淀到反應(yīng)室底部。

（6）在二氧化硅結(jié)垢的場合，加裝SCP電解系統(tǒng)用來防止二氧化硅沉淀。除垢過程 當(dāng)電化學(xué)設(shè)備工作時間達(dá)到設(shè)定值，控制系統(tǒng)就啟動自動刮垢、排污和清洗程序。進(jìn)水閥門自動關(guān)閉，同時排污閥門開啟，電機(jī)啟動刮刀刮掉反應(yīng)時內(nèi)壁的軟質(zhì)水垢，與沉淀物一起排出反應(yīng)室。然后進(jìn)水閥門開啟，刮刀運(yùn)動，將水垢和沉淀物*清洗干凈。大約2-5分鐘后，排污閥門自動關(guān)閉，電化學(xué)設(shè)備恢復(fù)正常工作。電控系統(tǒng)（1）自動刮除水垢、排污和清洗。（2）內(nèi)置電導(dǎo)率測試電路，自動適應(yīng)水質(zhì)的電導(dǎo)率波動。

三、哈澤爾復(fù)合電吸附裝置 水處理設(shè)備主要特點(diǎn)在于：

降低污染物排放，提高濃縮倍數(shù)。

高效率控制微生物，有效降低穿孔腐蝕 風(fēng)險。

大大節(jié)省運(yùn)行費(fèi)用，無投資風(fēng)險。

自動化程度高，簡化循環(huán)水系統(tǒng)管理。

去除水垢看得見摸得著，提高換熱效率。