上海伯東 Pfeiffer 質(zhì)譜分析儀 Omnistar 與 TPR/TPD 聯(lián)用應(yīng)用于進(jìn)行金屬表面積測試
"化學(xué)吸附儀 TPR/TPD，是運(yùn)用氣體分子或者蒸汽分子的化學(xué)吸附和脫附的現(xiàn)象來得到測試結(jié)果的。當(dāng)氣體分子或者蒸汽分子，通過化學(xué)鍵連接到樣品的固體表面時我們稱之為化學(xué)吸附，反之當(dāng)此化學(xué)鍵斷開時候就是化學(xué)脫附。化學(xué)吸附可以探測樣品表面的特定分子種類。

設(shè)備的程序升溫分析用于研究在程序控制的熱能條件下，金屬化學(xué)吸附位的性質(zhì)。TPD 測試時，在程序控制下，通過監(jiān)測樣品表面脫附的分子種類，并測量不同溫度下，脫附氣體分子的體積，就能得到化學(xué)吸附位的強(qiáng)度和化學(xué)吸附位的數(shù)量。

上海伯東客戶案例：上海某高等研究院
TPR 可以定量分析樣品中的可還原組分，本化學(xué)吸附儀在連接上海伯東德國 Pfeiffer 質(zhì)譜分析儀 Omnistar之后有了更好的表現(xiàn)，載流氣體經(jīng)過樣品管后，可以直接通入Omnistar 質(zhì)譜分析儀，來測定反應(yīng)產(chǎn)物或脫附后的產(chǎn)物的分子質(zhì)量，進(jìn)而可以推斷出反應(yīng)產(chǎn)物的類型。當(dāng)對同一樣品，在不同溫度條件下進(jìn)行的測試結(jié)果進(jìn)行分析后，就可以計算脫附熱。
本化學(xué)吸附應(yīng)用，就是用來測量支撐基板上附著的活性金屬表面積的大小、活性金屬的分散度和活性金屬含量的百分比。

吸附儀 AutoChem 2920 配置：
1. 高溫爐溫度范圍：40-1100℃；
2. 自動升溫速度：0-50℃/min（-70-500℃）,0-30℃/min（500-700℃）,0-10℃/min（750-1100℃）；
3. 吸附氣體：二氧化碳、氫氣、氧氣。

該裝置配套 Omnistar 質(zhì)譜分析儀配置:
1.測量范圍:1-200amu
2.進(jìn)樣方式:常壓
3.加熱溫度:1-200℃
4.毛細(xì)管材質(zhì):石英


Pfeiffer 質(zhì)譜分析儀 與友廠英國 Hiden,美國 Ametek 質(zhì)譜儀相比主要優(yōu)勢：
1.整機(jī)設(shè)計：整個質(zhì)譜采用全封閉式結(jié)構(gòu)，保護(hù)儀器內(nèi)各個元件潔凈，測量不受干擾，不易被損壞，靈敏度高，保證所有組件歐洲。
2.質(zhì)譜分析儀采用 Gas-tight 封閉式離子源,雙燈絲設(shè)計,的場軸技術(shù)和偏壓技術(shù)保證低氣體釋放,低氣體消耗,低背景噪音,高信噪比等優(yōu)點。
3.配置雙分流渦輪分子泵 Hipace 80,無需增加旁路排氣系統(tǒng),分子泵轉(zhuǎn)速高達(dá) 90000 rpm/min,業(yè)界.
4.內(nèi)置鉑金微孔,毛細(xì)進(jìn)樣管進(jìn)樣系統(tǒng),耐受溫度 350 度,可實現(xiàn) 5x10-3 mbar 真空進(jìn)樣
5.質(zhì)譜分析儀內(nèi)置 QuadstarTM 軟件: 操作簡單,功能強(qiáng)大,可以更方便地進(jìn)行定性定量分析以及線上離線分析。