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，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。真空鍍膜一般有蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜。
多弧離子鍍作為物理氣相沉積技術(shù)的一個(gè)分支，是在真空蒸鍍和真空濺射的基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一門(mén)新型涂層制備技術(shù)，也稱(chēng)為真空弧光蒸鍍法，它把真空電弧放電用于電弧蒸發(fā)源。
由于多弧離子鍍技術(shù)具有沉積速率高、涂層附著力好、涂層致密、操作方便等特點(diǎn)，因此在材料表面改性領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。
真空鍍膜技術(shù)已在國(guó)民經(jīng)濟(jì)各個(gè)領(lǐng)域得到應(yīng)用，如航空、航天、電子、信息、機(jī)械、石油、化工、環(huán)保、軍事等領(lǐng)域。
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