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半導(dǎo)體工藝設(shè)備機(jī) 麻辣燙爐

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更新時(shí)間:2023-06-26 09:41:01瀏覽次數(shù):777

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半導(dǎo)體工藝設(shè)備機(jī)1、產(chǎn)品用途
Cluster集群式半導(dǎo)體工藝系統(tǒng),可集成PVD /PECVD /Etch /Plasma Clean / Annealing等工藝模塊。穩(wěn)定可靠的高精度真空機(jī)械手臂,使基片在各腔室之間的高效傳輸。適用于工藝實(shí)驗(yàn)研究、批量器件的制備等。

詳細(xì)介紹

半導(dǎo)體工藝設(shè)備機(jī)1、產(chǎn)品用途
       Cluster集群式半導(dǎo)體工藝系統(tǒng),可集成PVD /PECVD /Etch /Plasma Clean / Annealing等工藝模塊。穩(wěn)定可靠的高精度真空機(jī)械手臂,使基片在各腔室之間的高效傳輸。適用于工藝實(shí)驗(yàn)研究、批量器件的制備等。

2、技術(shù)參數(shù)

基片規(guī)格可選:4"、6"、8"、12"
工位數(shù)可選:4工位、6工位、8工位
上下料室數(shù)量可選:1個(gè)、2個(gè)(4工位只配置1個(gè))
料箱裝載量:25片/盒,更多需求可定制
可選配功能:基片烘烤、手套箱
工藝室類型可選:Sputtering/PECVD/Etch/Evaporation/Plasma Clean/Annealing
主泵可選:分子泵、低溫泵
前級(jí)泵可選:機(jī)械泵、干泵
極限真空度工藝室:8×10-6Pa(分子泵配置)
上下料室:2Pa (機(jī)械泵配置)
加熱器600℃,更高溫度可定制
可選配功能:基片旋轉(zhuǎn)、基片升降
工藝氣體各工藝腔體配2路MFC充氣,氣體種類可選,更多需求可定制
冷卻系統(tǒng)流量及溫度實(shí)時(shí)監(jiān)控,互鎖保護(hù)
軟件控制可編輯、儲(chǔ)存多種工藝配方,任意調(diào)用,適用于工藝研究
具備“一鍵啟動(dòng)式(全自動(dòng))生產(chǎn)”功能,適用于批量生產(chǎn)
賬戶分三級(jí)權(quán)限設(shè)置,提高系統(tǒng)安全性及工藝保密性
各種安全互鎖設(shè)計(jì),防止誤操作
其他如有其他特殊需求可定制
 

半導(dǎo)體工藝設(shè)備機(jī)

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