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深圳市飛立電器科技有限公司

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臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用介紹

參  考  價(jià):19500 - 25800 /件
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號(hào)

    FL-8100ET

  • 品牌

    飛立

  • 廠商性質(zhì)

    生產(chǎn)商

  • 所在地

    深圳市

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更新時(shí)間:2023-06-26 16:00:12瀏覽次數(shù):205次

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產(chǎn)量 100g/h 臭氧產(chǎn)生方式 高壓放電式
臭氧濃度范圍 60-80mg/l 工作壓力 0.3mpa
功率 2.3kw 介電材料 玻璃管
進(jìn)氣壓力 0.5mpa 冷卻方式 水冷型
氣體原料 氧氣型 適用范圍 其他
氧氣流量 1.2m3/h
臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用介紹
臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體制造中有廣泛的應(yīng)用。以下是臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體制造中的幾個(gè)主要應(yīng)用:
1. 清洗和表面處理:
2. 氧化和蝕刻:
3. 氣相摻雜:
4. 氣體清洗和消毒:

臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用介紹

臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體制造中有廣泛的應(yīng)用。以下是臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體制造中的幾個(gè)主要應(yīng)用:


1. 清洗和表面處理:臭氧發(fā)生器可用于清洗半導(dǎo)體器件的表面和凈化工藝中的設(shè)備。臭氧通過(guò)氧化作用可以有效去除有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物,清除表面的雜質(zhì)和殘留物,提供干凈的表面,以確保器件質(zhì)量和性能。


2. 氧化和蝕刻:臭氧發(fā)生器常用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的氧化和蝕刻步驟。在氧化過(guò)程中,臭氧可以與硅表面反應(yīng),形成二氧化硅(SiO2)薄膜,用于制作絕緣層或阻擋層。在蝕刻過(guò)程中,臭氧可與蝕刻氣體反應(yīng),加速材料的去除,實(shí)現(xiàn)微細(xì)結(jié)構(gòu)的制作。


3. 氣相摻雜:臭氧發(fā)生器可用于半導(dǎo)體器件的氣相摻雜過(guò)程。通過(guò)將氣態(tài)摻雜物與臭氧混合并通過(guò)反應(yīng)室,可以實(shí)現(xiàn)將摻雜物引入半導(dǎo)體材料中,調(diào)節(jié)材料的電性能和導(dǎo)電性。


4. 氣體清洗和消毒:臭氧發(fā)生器還可用于半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備和工藝室的氣體清洗和消毒。臭氧具有較強(qiáng)的殺菌和消毒能力,可以有效去除空氣中的細(xì)菌、病毒和有機(jī)污染物,保持生產(chǎn)環(huán)境的潔凈和衛(wèi)生。


臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用介紹:在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用有助于提高器件質(zhì)量、生產(chǎn)效率和生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度。飛立電器科技有限公司可以提供符合半導(dǎo)體制造要求的臭氧發(fā)生器,并根據(jù)客戶的具體需求進(jìn)行定制設(shè)計(jì)和技術(shù)支持,以滿足不同工藝和設(shè)備的要求。


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