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印染廠熱轉(zhuǎn)印定型UV光氧廢氣處理設(shè)備基本設(shè)置

目前對(duì)印染廢氣比較有效的廢氣處理設(shè)備工藝有濕法凈化塔+光氧催化設(shè)備。廢氣通過(guò)引風(fēng)機(jī)進(jìn)入濕法凈化塔，通過(guò)循環(huán)泵的水流沖擊，此時(shí)含塵氣體中的塵粒便被水捕集，塵粒因重力經(jīng)塔壁流入循環(huán)池，含漆霧、粉塵廢氣經(jīng)過(guò)有效過(guò)濾脫離，凈化后氣體在進(jìn)入光氧催化凈化器中，通過(guò)特定波長(zhǎng)的紫外線光照射在催化劑的催化作用下，產(chǎn)生大量的氫氧自由基，利用它的強(qiáng)氧化性快速將有機(jī)廢氣處理分解，生成無(wú)毒無(wú)害的二氧化碳和水。

 印染廠熱轉(zhuǎn)印定型UV光氧廢氣處理設(shè)備基本設(shè)置許多廢氣中富含一種以上污染物,且污染物性質(zhì)雜亂、濃度高、處理請(qǐng)求嚴(yán)，此刻僅選用一種處理單元就難以經(jīng)濟(jì)有用地到達(dá)處理意圖。因而，需要兩種或兩種以上的技能單元組合使用。富含粒子污染物的氣體常選用旋風(fēng)分離、過(guò)濾、靜電捕集和濕式洗刷；硫氧化物處理常選用吸收和吸附。關(guān)于中小型鍋爐煙氣的處理，可以選用多管旋風(fēng)除塵+噴淋脫硫技能或選用廢氣洗刷塔，并向洗刷水中加入適量的加堿性吸收劑。含高濃度有機(jī)廢氣處理,選用光氧催化技術(shù)進(jìn)行處理。

光氧催化設(shè)備內(nèi)部結(jié)構(gòu)光氧催化除臭設(shè)備是在外界可見(jiàn)光的作用下發(fā)生催化作用,光催化氧化反應(yīng)是以半導(dǎo)體及空氣為催化劑，以光為能量，將有機(jī)物降解為CO2和H2O的除臭設(shè)備。光氧催化除臭設(shè)備采用的半導(dǎo)體是目前反應(yīng)效率zui高的納米TiO2光催化劑,經(jīng)蜂窩陶瓷載附特殊處理后使用,達(dá)到理想效果。

印染廠熱轉(zhuǎn)印定型UV光氧廢氣處理設(shè)備基本設(shè)置根據(jù)UV光解凈化法的工作原理設(shè)計(jì)的光解式廢氣凈化裝置，該設(shè)備包括箱體和分別設(shè)置在箱體左、右兩端的進(jìn)、出風(fēng)口，所述箱體內(nèi)自左向右依次設(shè)置有*導(dǎo)流裝置、過(guò)濾裝置、UV光解裝置和控制系統(tǒng)，*導(dǎo)流裝置包括對(duì)氣體進(jìn)行分流的*導(dǎo)流板；過(guò)濾裝置包括過(guò)濾網(wǎng)；光解式廢氣凈化裝置包括起光解凈化作用的UV燈管，所述箱體前端或者后端的內(nèi)側(cè)壁上均布設(shè)有若干燈管座，每個(gè)所述燈管座上自上而下均布設(shè)有若干所述UV燈管；控制系統(tǒng)通過(guò)控制控制面板實(shí)現(xiàn)控制光解式廢氣凈化裝置運(yùn)行或者停止工作。本實(shí)用新型，*分流裝置使得風(fēng)阻極低,節(jié)約了排風(fēng)動(dòng)力能耗；過(guò)濾裝置吸附異味，并將大顆粒的粉塵隔離阻擋??；UV光解裝置通過(guò)紫外線光解實(shí)現(xiàn)zui終的氣體分解凈化。

實(shí)用新型公開了一種吸附光氧廢氣凈化器，包括箱體，所述的箱體一端開設(shè)有進(jìn)風(fēng)口，所述的箱體內(nèi)位于進(jìn)風(fēng)口處設(shè)有初效過(guò)濾層，所述的初效過(guò)濾層的上方設(shè)有若干紫外光發(fā)射管，所述的紫外光發(fā)射管之間設(shè)有若干吸附式活性碳纖維層，所述的相鄰吸附式活性碳纖維層之間設(shè)有光催化反應(yīng)層，所述的箱體的另一端設(shè)有出風(fēng)口，所述的箱體內(nèi)位于靠近出風(fēng)口處設(shè)有微波發(fā)射器，所述的箱體外壁上設(shè)有控制器。本實(shí)用新型的設(shè)備凈化效率可以提高60%以上，催化反應(yīng)速率提高1/3，而且設(shè)備運(yùn)行維護(hù)方便，運(yùn)行費(fèi)用低，效果穩(wěn)定。（廢氣溫度宜為常溫，不高于60℃；廢氣的相對(duì)濕度應(yīng)低于95%；pH適宜的范圍為7~9；預(yù)處理設(shè)備應(yīng)盡量降低粉塵和其他黏性或油脂性顆粒物，一般預(yù)處理后其含量不高于10mg/m3。）裂解反應(yīng)時(shí)間極短（＜0.01s），氧化反應(yīng)時(shí)間需約2~3s，即廢氣從光解設(shè)備出來(lái)以后需2~3的氧化反應(yīng)時(shí)間，即一般廢氣從UV光解設(shè)備出來(lái)至檢測(cè)口須15米長(zhǎng)或以上的管道。配置合適功率的UV光解凈化設(shè)備。（廢氣溫度宜為常溫，不高于60℃；廢氣的相對(duì)濕度應(yīng)低于95%；pH適宜的范圍為7~9；預(yù)處理設(shè)備應(yīng)盡量降低粉塵和其他黏性或油脂性顆粒物，一般預(yù)處理后其含量不高于10mg/m3。）裂解反應(yīng)時(shí)間極短（＜0.01s），氧化反應(yīng)時(shí)間需約2~3s，即廢氣從光解設(shè)備出來(lái)以后需2~3的氧化反應(yīng)時(shí)間，即一般廢氣從UV光解設(shè)備出來(lái)至檢測(cè)口須15米長(zhǎng)或以上的管道。配置合適功率的UV光解凈化設(shè)備。

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